今年的半導(dǎo)體工藝升級到了5nm，臺積電上半年已開始量產(chǎn)5nm EUV（極紫外光刻）工藝,，現(xiàn)在有了4nm節(jié)點(diǎn)的消息,。

在昨天的臺積電股東大會上,，臺積電CEO劉德音宣布,，將會推出4nm工藝“N4”,，是5nm工藝的加強(qiáng)版,，預(yù)計(jì)2023年投入量產(chǎn),。

2023年投產(chǎn)4nm有些耐人尋味,，畢竟臺積電3nm將于2021年上半年投入試生產(chǎn)，批量生產(chǎn)應(yīng)于2022年開始,，也就是說4nm是在3nm量產(chǎn)之后,。

這和之前6nm工藝有些相同，它也是7nm工藝的升級版,，優(yōu)勢在于性能,、功耗繼續(xù)優(yōu)化，同時(shí)設(shè)計(jì)上彼此兼容,，客戶能以幾乎相同的成本拿到新工藝,。

此外,，臺積電還在積極推進(jìn)2nm工藝速度，近期購買了更昂貴的極紫外(EUV)光刻機(jī),，用于2nm研發(fā),，至于何時(shí)試產(chǎn)尚不可知，目前處于研發(fā)階段,。